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相關(guān)文章半導體潔凈室氣體分析監測系統通過(guò)污染物源頭控制、傳播控制,實(shí)時(shí)監控污染物濃度并結合多級過(guò)濾器以及新風(fēng)系統來(lái)實(shí)現,持久監測AMC濃度,有助于掌握污染物源頭、穩定生產(chǎn)、預防過(guò)濾器突發(fā)性壽命減少等。
煤自燃束管監測可作為煤自燃大樣實(shí)驗臺和小樣實(shí)驗臺監測系統,也可為煤火災害消防及火災科學(xué)等多個(gè)方向的科學(xué)研究提供實(shí)驗條件和煤礦?產(chǎn)提?效率,檢測煤自然發(fā)火過(guò)程中多組分指標?體的?成規律,解決煤自燃早期隱患特征信息的判識提供技術(shù)?持和理論?撐。通過(guò)對自燃火災標志?體的測定和分析,及時(shí)預測預報發(fā)火點(diǎn)的溫度變化,判斷煤面的氧化情況,為煤礦自燃火災和礦井瓦斯事故的防治工作提供科學(xué)依據。
EDK 6900P系列TDL激光微量便攜氣體分析儀高靈敏度和寬的動(dòng)態(tài)量程,是可調諧半導體激光器光譜(TDLS)技術(shù)的基本特性,可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
TDL激光微量在線(xiàn)氣體分析儀基于非色散紫外吸收光譜NDUV技術(shù)來(lái)對氫氣中Cl2進(jìn)行分析。NDUV非色散紫外吸收光譜技術(shù)是確定復雜氣體混合物中濃度的一種普遍方法。
空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業(yè)要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺類(lèi)、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類(lèi)等濃度測量,當這些氣體與化學(xué)放大光刻膠反生反應 時(shí),將深深的影響半導體器件質(zhì)量。
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